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半導體元器件燒結爐 高溫管式爐主要適用于粉料、顆粒的燒結，并分成動態與靜態燒結二大系列，動態燒結使 物料受熱更均勻、燒結時間縮短等優勢。

雙溫區管式爐 直管間歇式回轉爐的設計結合了動態燒結與氣氛保護兩大優勢，有效提升了受熱均勻性，縮短了燒結周期，降低了單位能耗，實現產品一致性高、活性好、品質優良的生產目標。是新材料規模化生產的合理選擇。

氣氛管式爐 管式真空爐的爐管可選擇配置耐熱鋼、石英玻璃、陶瓷管等材料。可分為單溫區、雙溫區、三溫區等多種管式爐型。

石英旋轉管式爐 電熱回轉窯，主要適用于顆粒的動態燒結，使物料受熱更均勻、燒結時間縮短、能耗降低、品質更高等優點.。

噴霧燒結管式爐 管式電阻爐可分為單溫區、雙溫區、三溫區等多種管式爐型。此爐型具有安全可靠、操作簡單、控溫 精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區多、可選配氣氛、抽真空爐 型等特點。